Kurzfassung: Bleiben Sie dran, während wir die wichtigsten Funktionen und realen Ergebnisse des KF200 In-situ-Laser-Gasanalysators hervorheben. Dieses Video zeigt, wie die TDLAS-Technologie die Echtzeitüberwachung von CO, NH₃, HCl und O₂ in Industrieemissionen ermöglicht und eine präzise und zuverlässige Gasdetektion für raue Umgebungen bietet.
Verwandte Produktmerkmale:
Verwendet die Absorptionsspektroskopie mit abstimmbaren Diodenlasern (TDLAS) für genaue Gaskonzentrationsmessungen.
Verfügt über ein Dual-Schutz-Sondendesign, wodurch eine Spülung mit Überdruck überflüssig wird.
Kompakte und hochzuverlässige Struktur, geeignet für raue Industrieumgebungen.
Unterstützt Konzentrationsmessungen auf Makro- und Trace-Ebene für vielseitige Anwendungen.
Hochleistungslaser ohne Faserkopplung gewährleisten Haltbarkeit unter Bedingungen mit hoher Staubbelastung.
Mehrere Konfigurationen verfügbar, einschließlich In-situ-Sonde, Bypass- und Mehrkanalmodelle.
Erfüllt strenge Sicherheitsstandards, einschließlich GB7247.1-2001 und IEC 60825-1:1993.
Großer Erfassungsbereich für Gase wie O₂, CO, NH₃, HCl und mehr, mit niedrigen Nachweisgrenzen.
FAQs:
Welche Gase kann der KF200 Laser-Gasanalysegerät detektieren?
Der KF200 kann Gase wie O₂, CO, NH₃, HCl, CO₂, CH₄, H₂O und mehr detektieren, mit Nachweisgrenzen von bis zu 0,01 % Vol. für O₂ und 0,1 ppm für NH₃.
Ist der KF200 für raue Industrieumgebungen geeignet?
Ja, der KF200 verfügt über ein Dual-Schutz-Sondendesign und Hochleistungslaser ohne Faserkopplung, was ihn ideal für staubige und raue Industrieumgebungen macht.
Wie funktioniert die TDLAS-Technologie im KF200?
Das KF200 verwendet TDLAS, um die spezifische Absorptionsspitze des Zielgases durch Modulation der Laserwellenlänge zu scannen, Hintergrundstörungen zu eliminieren und das zweite Harmonische Signal für präzise Konzentrationsberechnungen zu messen.